可靠的识别所有颜色和涂层缺陷

COL-Q 光学检测系统根据千兆瓦级生产设施的需求定制，能够可靠的识别的所有缺陷。 COL-Q以小于0.7的循环时间动态进行检测且检测性能不受影响

独特的 MultiView技术可在涂层后立即精确检测涂层缺陷，例如颜色偏差，颜色缺陷，污渍和涂层厚度的局部偏差（例如由工艺点引起的偏差）。通过将缺陷分配到镀膜过程中的相应硅片位置（ “船视图” ）生成的地图，然后可视化缺陷或明显电池的空间分布。这种精确的检测允许在出现涂层缺陷时快速调整工艺参数。

根据涂层颜色、光学涂层厚度、均匀性和检测到的缺陷将涂层电池分组为质量等级。该系统还使用户能够自动去除不符合分类阈值的硅片。因此，该系统既降低了生产成本，又能够生产具有完美减反射涂层的电池