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COL-Q

电介质涂层的检查和分类,重点关注厚度、色值和均匀性。

可靠的识别所有颜色和涂层缺陷

COL-Q 光学检测系统根据千兆瓦级生产设施的需求定制, 能够可靠的识别 的所有缺陷。 COL-Q以小于0.7的循环时间动态进行检测且检测性能不受影响

独特的 MultiView技术可在涂层后立即精确检测涂层缺陷,例如颜色偏差,颜色缺陷,污渍和涂层厚度的局部偏差(例如由工艺点引起的偏差)。通过将缺陷分配到镀膜过程中的相应硅片位置( “船视图” )生成的地图,然后可视化缺陷或明显电池的空间分布。这种精确的检测允许在出现涂层缺陷时快速调整工艺参数。

 根据涂层颜色、光学涂层厚度、均匀性和检测到的缺陷将涂层电池分组为质量等级。该系统还使用户能够自动去除不符合分类阈值的硅片。因此,该系统既降低了生产成本,又能够生产具有完美减反射涂层的电池


COL-Q 解决方案的动力来自

product branding
  • 单层、分级层和多层涂层的质量检测
  • 基于镀膜颜色的光学质量、光学层厚度、均匀性和缺陷对镀膜硅片进行质量分级
  • 通过涂层厚度和电池颜色的分类对抗反射涂层厚度工艺进行控制(使用HSV和CIELAB颜色模型)
  • 灵活的工艺集成, 可动态或闲置进行检测
  • 多视图技术可实现高质量的表面缺陷检测灵敏度
  • 跟踪和定位工艺偏差

探索COL-Q的全部应用

硅片和电池

通过COL-Q光学检测提高光伏电池产量。检测表面缺陷,调整工艺参数,确保防反射涂层无瑕疵
wafer and cell manufacturing

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